Photovoltaic (PV) ဆဲလ်များကို ဆီလီကွန်ကဲ့သို့သော semiconductor ပစ္စည်းများဖြင့် ပြုလုပ်ထားပြီး positive နှင့် negative electrodes နှစ်မျိုးလုံးပါရှိသည်။ နေရောင်ခြည်နှင့်ထိတွေ့သောအခါ photovoltaic effect ဖြစ်ပေါ်လာပြီး အလင်းစွမ်းအင်ကို direct current (DC) ပုံစံဖြင့် လျှပ်စစ်စွမ်းအင်အဖြစ် ချက်ချင်းပြောင်းလဲပေးသည်။ ဤလျှပ်စစ်ဓာတ်အားကို ဘက်ထရီများတွင် သိမ်းဆည်းနိုင်သည် သို့မဟုတ် inverter မှတစ်ဆင့် alternating current (AC) အဖြစ် ပြောင်းလဲနိုင်ပြီး မတူညီသော စွမ်းအင်လိုအပ်ချက်များကို ဖြည့်ဆည်းပေးနိုင်သည်။ PV ဆဲလ်များကို မကြာခဏ မော်ဂျူးများနှင့် series သို့မဟုတ် parallel ချိတ်ဆက်ထားပြီး ပိုမိုကြီးမားသော စွမ်းအင်ထွက်ရှိမှုအတွက် array များအဖြစ် စုစည်းထားသည်။
၁။ အလူမီနီယမ် နောက်ကျော မျက်နှာပြင် ကွင်း (BSF) ဆဲလ်များ
ဖွဲ့စည်းပုံနှင့် မူ
BSF ဆဲလ်များသည် အလူမီနီယမ်အပေါ်ယံလွှာကို နောက်ဘက်လျှပ်ကူးပစ္စည်းအဖြစ် အသုံးပြုသည့် အသုံးများသော ဆိုလာဆဲလ်အမျိုးအစားတစ်ခုဖြစ်သည်။ ၎င်းသည် အီလက်ထရွန်များကို နောက်ဘက်လျှပ်ကူးပစ္စည်းသို့ မောင်းနှင်ရန် ကူညီပေးသည့် နောက်ဘက်လျှပ်စစ်စက်ကွင်းကို ဖွဲ့စည်းပေးပြီး စွမ်းအင်ပြောင်းလဲမှုထိရောက်မှုကို မြှင့်တင်ပေးသည်။ ထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်တွင် ဆီလီကွန်မျက်နှာပြင်ကို ဖော့စဖရပ်စ်ဖြင့် ထိုးသွင်းပြီး N-type ဒေသတစ်ခုဖန်တီးခြင်း၊ ရှေ့ဘက်တွင် P-type ဒေသတစ်ခုဖန်တီးရန် ဖလင် သို့မဟုတ် အပေါ်ယံလွှာကို လိမ်းခြင်းနှင့် pn junction တစ်ခုဖွဲ့စည်းခြင်းတို့ ပါဝင်သည်။ နောက်ဆုံးတွင် လျှပ်စီးကြောင်းကို စုဆောင်းရန် သတ္တုကွက်များကို ထည့်သွင်းထားသည်။
ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်မှုသမိုင်း
၁၉၇၃ ခုနှစ်တွင် ပထမဆုံး အဆိုပြုခဲ့သော BSF ဆဲလ်များသည် အစောဆုံး စီးပွားဖြစ် ထုတ်လုပ်ခဲ့သော ပုံဆောင်ခဲ ဆီလီကွန် ဆဲလ်ဖွဲ့စည်းပုံ ဖြစ်သည်။ ၂၀၁၆ ခုနှစ်တွင် ၎င်းတို့သည် ဈေးကွက်ဝေစု၏ ၉၀% ကျော်ကို ရရှိခဲ့သည်။
အားသာချက်များ
BSF ဆဲလ်များသည် ၎င်းတို့၏ ရိုးရှင်းမှု၊ ကုန်ကျစရိတ်သက်သာမှုနှင့် ရင့်ကျက်သောနည်းပညာတို့အတွက် ထင်ရှားသည်။
၂။ PERC ဆဲလ်များ
မူလအမည်ပေးခြင်း
PERC ဆိုသည်မှာ Passivated Emitter and Rear Cell ကို ကိုယ်စားပြုသည်။
လုပ်ငန်းစဉ်နှင့် စွမ်းဆောင်ရည်
ရိုးရာ BSF ဆဲလ်များကို အခြေခံ၍ PERC နည်းပညာသည် အဓိကအဆင့်နှစ်ဆင့်ကို ထည့်သွင်းထားသည်- နောက်ဘက်မျက်နှာပြင် passivation နှင့် laser opening တို့ဖြစ်ပြီး စွမ်းဆောင်ရည်ကို သိသိသာသာ မြှင့်တင်ပေးသည်။ ထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်တွင် wafer သန့်ရှင်းရေးနှင့် texturing၊ pn junctions များဖန်တီးရန် diffusion၊ selective emitters များအတွက် laser doping၊ နောက်ဘက် passivation၊ laser drilling၊ screen printing၊ sintering နှင့် testing တို့ ပါဝင်သည်။
အားသာချက်များ
PERC ဆဲလ်များတွင် ရိုးရှင်းသောဖွဲ့စည်းပုံ၊ ထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်တိုတောင်းခြင်းနှင့် စက်ပစ္စည်းများ၏ ရင့်ကျက်မှုမြင့်မားခြင်းတို့ ပါရှိသည်။
၃။ Heterojunction (HJT) ဆဲလ်များ
ဖွဲ့စည်းပုံ
HJT ဆဲလ်များသည် ပုံဆောင်ခဲ ဆီလီကွန် အောက်ခံများနှင့် amorphous ဆီလီကွန် ဖလင်များကို ပေါင်းစပ်ထားသော hybrid ဆိုလာဆဲလ်များ ဖြစ်သည်။ ၎င်းတို့တွင် ရှေ့နှင့်နောက် မျက်နှာပြင်များကို passivate လုပ်ရန် heterojunction interface တွင် intrinsic amorphous ဆီလီကွန် အလွှာများကို ပေါင်းစပ်ထားသည်။ အချိုးကျဖွဲ့စည်းပုံတွင် N-type ပုံဆောင်ခဲ ဆီလီကွန် အောက်ခံ၊ အလင်းဘက်ခြမ်းတွင် Pi amorphous ဆီလီကွန် အလွှာ၊ နောက်ဘက်တွင် iN amorphous ဆီလီကွန် အလွှာနှင့် နှစ်ဖက်စလုံးတွင် ပွင့်လင်းမြင်သာသော အီလက်ထရုတ်များနှင့် ဘတ်စ်ဘားများ ပါဝင်သည်။ ၎င်းတို့သည် bifacial ဆဲလ်များ ဖြစ်သည်။
အားသာချက်များ
HJT ဆဲလ်များသည် မြင့်မားသောစွမ်းဆောင်ရည်၊ ယိုယွင်းပျက်စီးမှုနည်းပါးခြင်း၊ အပူချိန်ကိန်းနိမ့်ခြင်း၊ bifaciality မြင့်မားခြင်း၊ ရိုးရှင်းသောလုပ်ငန်းစဉ်များနှင့် ပိုပါးလွှာသောဝေဖာများအတွက် သင့်လျော်ခြင်းတို့ဖြင့် ကြွားဝါကြသည်။
၄။ TOPCon ဆဲလ်များ
နည်းပညာဆိုင်ရာ အခြေခံမူ
TOPCon (Tunnel Oxide Passivated Contact) ဆဲလ်များသည် ရွေးချယ်သယ်ဆောင်သည့် နိယာမအပေါ် အခြေခံထားသည်။ ၎င်းတို့တွင် အလွန်ပါးလွှာသော ဆီလီကွန်အောက်ဆိုဒ်အလွှာနှင့် အနောက်ဘက်တွင် ရောစပ်ထားသော ဆီလီကွန်အလွှာပါရှိပြီး passivated contact structure ကို ဖွဲ့စည်းပေးသည်။ ၎င်းသည် မျက်နှာပြင်နှင့် သတ္တုထိတွေ့မှု ပြန်လည်ပေါင်းစပ်မှုကို လျော့နည်းစေပြီး N-PERT ဆဲလ်များတွင် စွမ်းဆောင်ရည်တိုးတက်မှုအတွက် သိသာထင်ရှားသော အလားအလာကို ဖန်တီးပေးသည်။
လုပ်ငန်းစဉ်အင်္ဂါရပ်များ
TOPCon ဆဲလ်များသည် N-type ဆီလီကွန်အောက်ခံများကို အသုံးပြုပြီး ရှိပြီးသား P-type ထုတ်လုပ်မှုလိုင်းများကို အနည်းငယ်သာပြောင်းလဲရန် လိုအပ်ပြီး ဥပမာအားဖြင့် ဘိုရွန်ပျံ့နှံ့မှုနှင့် ပါးလွှာသောအလွှာစုပုံခြင်းကိရိယာများ ထည့်သွင်းခြင်းကဲ့သို့သော ပြောင်းလဲမှုအနည်းငယ်သာ လိုအပ်ပါသည်။ ၎င်းတို့သည် နောက်ဘက်အပေါက်များနှင့် ချိန်ညှိမှုမလိုအပ်ဘဲ ထုတ်လုပ်မှုကို ရိုးရှင်းစေပြီး PERC နှင့် N-PERT ဆဲလ်လုပ်ငန်းစဉ်များနှင့် တွဲဖက်အသုံးပြုနိုင်မှုကို မြှင့်တင်ပေးပါသည်။
အားသာချက်များ
TOPCon ဆဲလ်များသည် ယိုယွင်းပျက်စီးမှုနည်းပါးခြင်း၊ မျက်နှာနှစ်မျိုးပါဝင်မှုမြင့်မားခြင်းနှင့် အပူချိန်ကိန်းနည်းပါးခြင်းတို့ကြောင့် နေရောင်ခြည်စွမ်းအင်သုံး ဓာတ်အားပေးစက်ရုံများတွင် အလွန်ကောင်းမွန်သော စွမ်းဆောင်ရည်ကို ရရှိစေပါသည်။
၅။ IBC ဆဲလ်များ
ဖွဲ့စည်းပုံနှင့် မူ
Interdigitated Back Contact (IBC) ဆဲလ်များသည် ရှေ့ဘက် electrode grid လိုင်းအားလုံးကို အနောက်ဘက်သို့ ရွှေ့ပြောင်းပြီး pn junction များနှင့် သတ္တုအဆက်အသွယ်များကို interdigitated pattern ဖြင့် စီစဉ်ပေးပါသည်။ ၎င်းသည် အရိပ်ကို လျော့ကျစေပြီး အလင်းစုပ်ယူမှုကို တိုးမြင့်စေသည်။ ရှေ့ဘက်သတ္တုအဆက်အသွယ်များ မပါဝင်သောကြောင့် IBC ဆဲလ်များသည် photon ပြောင်းလဲမှုအတွက် ပိုမိုကျယ်ပြန့်သော active area ကို ပေးစွမ်းသည်။
နည်းပညာပေါင်းစည်းမှု
IBC ဆဲလ်များသည် PERC၊ TOPCon၊ HJT နှင့် perovskite ကဲ့သို့သော အခြားနည်းပညာများနှင့် ပေါင်းစပ်နိုင်ပြီး "TBC" (TOPCon-IBC) နှင့် "HBC" (HJT-IBC) ကဲ့သို့သော အဆင့်မြင့် hybrid ဆဲလ်များကို ဖွဲ့စည်းနိုင်သည်။
အသုံးချမှုအလားအလာ
၎င်းတို့၏ အလှအပဆိုင်ရာ ဒီဇိုင်းဖြင့် IBC ဆဲလ်များသည် building-integrated photovoltaics (BIPV) အတွက် အလွန်သင့်လျော်ပြီး ခိုင်မာသော စီးပွားရေးအလားအလာများကို ပိုင်ဆိုင်ထားသည်။
နိဂုံးချုပ်
PV ဆဲလ် အမျိုးအစားတစ်ခုစီသည် ထူးခြားသော အားသာချက်များကို ပေးစွမ်းပြီး နေရောင်ခြည်စွမ်းအင်နည်းပညာများ ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်စေရာတွင် အဓိကအခန်းကဏ္ဍမှ ပါဝင်သည်။ စဉ်ဆက်မပြတ် ဆန်းသစ်တီထွင်မှုများမှတစ်ဆင့် ဤနည်းပညာများသည် photovoltaic လုပ်ငန်း၏ တိုးတက်မှုနှင့် အသွင်ပြောင်းလဲမှုကို မောင်းနှင်နေပါသည်။
